[Electron Microscopy Sciences] Silicon Nitride TEM Window Grid, (8)100 sq., (1)100x350µm, 20nm

[Electron Microscopy Sciences 한국공식대리점]

[Electron Microscopy Sciences] Silicon Nitride TEM Window Grid, (8)100 sq., (1)100x350µm, 20nm

Product Information:

• Silicon Nitride TEM Window Grid는 가혹한 실험실 환경에서도 매우 우수한 성능을 발휘합니다.
• 실리콘 프레임의 두께는 100 µm이며, 표준 3 mm 홀더와 대부분의 double tilt holders에 호환됩니다.
• 또한 시료 준비를 보다 간편하게 할 수 있도록 투명 젤 박스 포장으로 제공됩니다.

Features:

• Plasma Cleanable: 유기 오염물(organic contamination)을 제거하기 위해 강력한 plasma cleaning이 가능합니다.
• Field to Field Uniformity: 단일 윈도우 그리드뿐만 아니라 전체 production lot 기준으로도 필름 두께 변동이 0.5 nm 이하로 매우 균일합니다.
• Tolerates Temperatures Above 1000°C: 1000°C 이상의 고온에서도 안정적으로 사용 가능하며, 고온에서 동적 반응을 관찰하는 환경 TEM에 적합합니다.
• Withstands Harsh Conditions: 이미징 해상도, 화학적 안정성, 기계적 강도 사이의 이상적인 균형을 제공하여 가혹한 조건에서도 신뢰성 있는 성능을 유지합니다.
• Incorporates LPCVD Low-Stress Silicon Nitride: LPCVD 공정으로 제조된 ~250 MPa 비화학양론적(non-stoichiometric) 질화실리콘(Silicon Nitride)을 사용하여 평탄한 절연성, 소수성 표면을 제공합니다.

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